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产品资料
产品[

反射式膜厚量测仪[产品打印页面]

]资料
如果您对该产品感兴趣的话,可以 产品名称: 反射式膜厚量测仪
产品型号: cp-002
产品展商: OTSUKA日本大冢
折扣价格: 0.00 元
关注指数:288
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简单先容

产品特点 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。 高精度、高再现性量测紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)。 宽阔的波长量测范围。(190nm~1100nm) 薄膜到厚膜的膜厚量测范围。(1nm~250μm) 对应显微镜下的微距量测口径。

反射式膜厚量测仪

   的详细先容

产品特点

  • 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
  • 高精度、高再现性量测紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)。
  • 宽阔的波长量测范围。(190nm~1100nm)
  • 薄膜到厚膜的膜厚量测范围。(1nm~250μm)
  • 对应显微镜下的微距量测口径。

量测项目

  • 透过率?反射率测量
  • 膜厚测量

产品规格

型号 标准型 厚膜专用型
样品大小 *大200mm×200mm×7(厚度)mm
可测层数 *1  
膜厚范围 1nm~40μm 0.8μm~210μm 1μm~240μm 80μm~1mm
波长范围 190nm~760nm 230nm~800nm 330nm~1100nm 430nm~970nm 750nm~850nm 900nm~1600nm 1490nm~1590nm
 测试单元  CCD  CCD  CCD  PDA  PDA InGaAs InGaAs
膜厚精度 ±0.1nm(以NIST认证的标准样品为依据)*2
重复性精度(2.1σ)    
  膜厚测试(Si基板上的SiO膜 100nm未满:0.1nm*3
100nm以上:0.07%
  反射率测试(Si基板) 230nm~250nm:0.8%*4
250nm~800nm:0.4% *4
800nm~1050nm:0.8%*4
测试光斑*5 φ40μm<×5倍>、φ20μm<×10倍>、φ10μm<×20倍>、φ6.6μm<×30倍>、φ5μm<×40倍>
对物镜头 反射式对物镜头倍数:×10倍、×20倍、×30倍、×40倍
折射式对物镜头(可视):×5倍、×10倍、×20倍
测试光源 D 2(紫外光)、I 2(可见光)、D 2 +I 2(紫外-可见光)
XYZ stage 自动stage   手动stage
行程 X:200mm、Y:250mm、Z:10mm   X:200mm、Y:250mm、Z:10mm
重复性精度 2μm<0.5μm>   -
驱动分辨率 1μm<0.1μm>   -
     尺寸·重量 481(W)mm×770(H)mm×714(D)mm约96kg   427(W)mm×770(H)mm×725(D)mm约88kg
控制单元 自动stage   手动stage
尺寸·重量  300(W)mm×710(H)mm×450(D)mm约34kg    300(W)mm×380(H)mm×450(D)mm约18kg
电源 规格  AC100V±10V   750VA    AC100V±10V   500VA
App  
测试 手动测试/连续测试/制图测试(mapping)/测试与计算同步功能
解析 非线性*小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/*适化法
基板解析/里面反射补正/各类nk解析模型式
优良反射率/解析结果Fitting/折射率n的波长相关性/消光系数k的波长相关性
3D显示功能(面内膜厚分布、鸟窥图、等高线、断面图)
系统维护 材料文件构建(database管理)、硬件的各种设定
其它 样品对焦的数值显示功能、自动对焦功能(自动stage有此功能)、内部反射补正功能
数据处理
数据处理 台式电脑、显示器、打印机

*1具体请咨询本企业。
*2以VLSI企业的标准样品(100nm SiO2/Si)范围值保证书为依据。
*3量测VLSI企业的标准样品(100nm SiO2/Si)同一点位时之重复性。(2.1倍σ)
*4具体参照相关保证书。
*5镜头为选配件,具体请咨询本企业。

应用范围

■ FPD
?LCD、TFT、OLED(有机EL)
■ 半导体、复合半导体
?矽半导体、半导体雷射、强诱电、介电常数材料
■ 资料储存
?DVD、磁头薄膜、磁性材料
■ 光学材料
?滤光片、抗反射膜
■ 平面显示器
?液晶显示器、薄膜电晶体、OLED
■ 薄膜
?AR膜
■ 其它
?建筑用材料

量测范围

玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析

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